用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。
芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、5G通讯(SAW器件)、生物医学仿生、荧光材料、OLED显示、有机材料、电子电路、光学膜等,细分及对应膜层如下:
-High-K介电材料(Al2O3,HfO2,ZrO2,PrAlO,Ta2O5,La2O3)
-导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN)
-金属互联结构 (Cu WN,TaN,Ru,Ir)
-催化材料 (Pt,Ir,Fe,Co,TiO2,V2O5)
-纳米结构 (All ALD Material)
-生物医学涂层 (TiN,ZrN,TiAlN,AlTiN)
-金属 (Ru,Pd,Ir,Pt,Rh,Co,Cu,Fe,Ni)
-压电层 (ZnO,AlN,ZnS)
-透明电学导体 (ZnO:Al,ITO)
-紫外阻挡层 (ZnO,TiO2)
-光子晶体 (ZnO,ZnS:Mn,TiO2,Ta3N5)
-防反射滤光(Al2O3,ZnS,SnO2,Ta2O5)
-电致发光器件(SrS:Cu,ZnS:Mn,ZnS:Tb,SrS:Ce)
-工艺层如蚀刻栅栏、离子扩散栅栏等 (Al2O3,ZrO2)
-光学应用如太阳能电池、激光器、光学涂层、纳米光子等 (AlTiO,SnO2,ZnO)
-传感器 (SnO2,Ta2O5)
-磨损润滑剂、腐蚀阻挡层 (Al2O3,ZrO2,WS2)
-OLED钝化层 (Al2O3)