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美国那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机

详细摘要： RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及1...
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美国蚀刻和剥离系统 CESx124

详细摘要：这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。
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德国分子束外延 Laser MBE

详细摘要： Laser MBELaser MBE特点模块化概念，Laser MBE可以轻松升级到传输模块或其他模块UHV PLD主腔室、利用Load-lock实现衬底和靶材...
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