力可LECO GDS850辉光放电光谱仪 返回列表页

仪器简介：

GDS850辉光放电光谱仪

辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。

特征

• 溅射与激发分离

• 宽动态范围的线性校准曲线

• 更小自吸收和材料再沉积

• 原子线激发

• 少和窄的发射线减少干扰

• 无冶金记忆效应

• 较少的校准标样

• 低氩气消耗

• 两次分析间的自动清扫

均匀的溅射

其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。

以下为对一个硬盘表面100nm深度每种元素3次分析的结果，可以看到每种元素随深度的分布。 

可选件

• 射频光源

• 统计软件包

• 光源套件

• 样品夹持器

• SMARTLINE远程诊断软件求

• 耗材

相关信息

• gds850参考卡(203-104-039)

• gds850样本

• 文章：辉光放电-涂层分析的现代方式

• 应用报告：QDP物理气相沉积法（102）

• 应用报告：GDS镍及镍基合金（052）

• 应用报告：GDS深度剖面分析（033）

• 应用报告：镀锌钢（001）

• 应用报告：抛光不锈钢上的薄氧化层（002）

• 应用报告：铝合金基板上的商用硬盘（003）

• 应用报告：玻璃基板上的40GB硬盘在（- 004）

• 应用报告：氧化铝样品中的铬（- 005）

• 应用报告：NIST 2135c（- 006）

• 性能报告：GDS分析基体样品的分析前准备（031）

• 性能报告：GDS ASTM E415真空法（030）

• 性能报告：GDS校准（- 041）

• 性能报告：GDS辉光放电光源（035）

• 性能报告：GDS ASTM E1009（- 044）

• 性能报告：铝膜QDP分析（028）

• 性能报告：镀铝钢的涂层分析（040）

• 性能报告：渗碳钢的QDP分析（036）

• 性能报告：粘弹性钢夹层QDP分析（034）

• 性能报告：磷酸铁涂层QDP分析（043）

• 性能说明：镀锌钢QDP分析（027）

• 性能说明： QDP分析电镀样品（024）

• 性能说明：GDS850硬盘深度剖面-048