上海尔迪仪器科技有限公司
技术应用链接:特点:低压等离子系统
· 低压等离子系统,用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式,实现控制高机能
· 6” Wafer去胶清洗
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· 操作简单易使用
型号 | ZEPTO W6 | ZEPTO W6 PCCE | ||
控制系统 | 手动控制 | PCCE 控制系统 | ||
工艺气路 | 双路气体 | |||
工艺气体 | O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 | |||
单体导入 | H2O等单体(选配) | |||
流量计 | 针阀流量计 | MFC流量计 | ||
真空 腔体 | 材质 | 高硼硅玻璃腔体,盖子门带观察窗(石英,铰链门选配) | ||
内尺寸(Dia.×D)mm | 160mm×180mm | |||
容积 | 4L | |||
电极 | 360度外置环绕电极 | |||
发生器
| 40KHz 0~100 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | |||
真空压力计 | 指针式压力计(选购) | 皮拉尼数字式压力计 | ||
计时器 | 旋钮式(选购) | 数字式 | ||
托盘 | 高硼硅玻璃(石英选配) | |||
外形尺寸(WXDxH)mm | 269x324x176(40kHz) | 425x450x185(13.56MHz) | ||
电源 | AC220V 50Hz 10A | |||
真空泵 | 排气速度4m3/H |
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