超高分辨率场发射扫描电子显微镜 SU9000
专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的*半导体器件，高分辨成像所设计。
特点
- 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM) - 用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
- 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
关联产品分类
- 聚焦离子束系统 (FIB/FIB-SEM)
- TEM/SEM样品前处理装置
