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等离子体辅助化学气相沉积系统PECVD-片式与卷对卷式PECVD

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品       牌

厂商性质其他

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更新时间:2024-08-14 09:52:59浏览次数:165次

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所在地区:北京北京市

产品简介

PECVD,支持定制,单片或卷对卷式PECVD

详细介绍

PECVD, 支持定制,单片或卷对卷式PECVD。

可用于沉积类金刚石、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮化物、硫化物等类型薄膜。

可用于聚合物薄膜沉积。

可选13.56兆赫、20kHz等离子体。


片式PECVD参数:

真空度10-3Pa,薄膜厚度:10nm-1um,温度范围:400摄氏度,基片大小:6英寸或根据用户要求。设备尺寸:直径350mm,高500mm。

价格35~55万人民币。


卷对卷式PECVD参数:

1分钟100m1.25m幅宽,卷厚度8um50um,可用于食品包装,起阻水阻氧作用。

参考价格500万人民币左右。


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