半导体材料超纯水设备 返回列表页

　　半导体材料是常用的原料，尤其是在电子行业高速发展的今天。半导体材料超纯水设备采用RO、EDI与精混床除盐水处理工艺，技术*可靠自动化程度高。设备重要的就是出水稳定，水质的电阻率达到18.2 MΩ.cm。

　　半导体材料超纯水设备配置

　　半导体材料超纯水设备的配置包括四部分，分别是前处理、预处理、主机系统以及后处理消毒装置。主要包括原水加压泵、多介质过滤器、活性炭过滤器、软水器、保安过滤器。主机系统是双级反渗透设备、EDI主机系统，消毒装置是臭氧发生器。

　　半导体材料超纯水设备优势

　　半导体材料超纯水设备优势在于其的配置，主要是以反渗透和电去离子装置为主机。这是当今*环保制取超纯水的工艺。这种工艺不需要要用酸碱进行再生便可连续制取，不会对环境造成二次污染。

　　半导体材料超纯水设备特点

　　半导体材料超纯水设备的特点就是实用性能强可以根据客户的实际而定。EDI系统有相当处理水量，采用积木式结构可依据场地的高度灵活地构造。是采用模块化的设计，在生产工作时能方便维护。

　　电子科技的发展代表着整体技术的发展水平，半导体材料的生产技术要求很高。半导体材料超纯水设备是我们超纯水设备厂家的自主研发，结合了国内外的*技术。设备的自动化智能化程度高，做到了基本无污染清洁生产的要求。