深圳市科时达电子科技有限公司
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NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
LSC是占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。
LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：
光刻胶去除/剥离
硅片
蓝宝石片
圆框架上的芯片
显示面板
ITO涂覆的显示屏
带保护膜的分划版
掩模版空白部位
掩模版接触部位
带保护膜/不带保护膜的掩模版
LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：
支持450mm直径的圆片或15"x15"方片
带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体
带化学试剂滴胶的刷子转速可调节
带LABVIEW软件的PC全自动控制
触摸屏用户界面
机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面
安全互锁及警报装置
30"D x 26"W 的占地面积
LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：
化学试剂传输模块
Piranha溶液清洗
臭氧化DI水（20ppm的O3）
氢化的DI水
高压DI水
热DI水
溶剂和酸分离排放
IR红外加热
DI水循环机
耐火立柜
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