上海瞬渺光电技术有限公司
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MLA 100 无掩模光刻仪
MLA100 无掩模光刻
以实惠的价格，重点是高性能设计，MLA100是许多研发应用的光刻方案。该光学系统被设计以50平方毫米/分钟直接进入光致抗蚀剂的速度来写结构下降到1微米，而无需光掩模。光掩模从光刻工艺中消除会增加灵活性和显著缩短成型或制造周期。该MLA100由曝光向导（GUI）控制，这通过完整的程序引导操作员来操作：加载基底，选择设计和开始曝光。随着60x1875px²的足迹MLA100的设计，以适应甚至到较小的研发实验室，并且只需要为操作提供电源和压缩空气。
MLA100的应用领域包括生命科学，微机电系统，微光学，半导体，传感器，执行器，微光机电系统，材料研究，纳米管，石墨烯，这任何一项应用都需要微光显示结构。
主要特征：
写速度 50mm^2/min
最小基板尺寸 6"x 6"
曝光区域 100×100mm^2
最小结构 1um
高功率LED光源
SLM基于光引擎
多种数据输入格式
基本灰度曝光模式
对准摄像系统
实时自动对焦
优化的曝光向导
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