半导体生产依赖于清洗和蚀刻的酸和腐蚀.在这样高挑战性的行业中，减少操作成本是成功的关键.IsoChem过程系统可实时连续监测浓度并控制化学品使用量.使用LT-NIR，可提高流程效率、减少成本，进行快速、安全、无损的化学品分析.
延长化学品使用时间
因为IsoChem分析仪集成溶液回收系统，所以大幅提高化学品使用率.IsoChem保证在潮湿化学处理过程中使用的溶液符合要求.监测酸浴水平并控制添加的化学品量.通过测量酸浓度和
自动回收溶液来提高溶液回收系统效率.减少化学品使用量，
耐酸腐蚀的测量工具
IsoChem分析仪配有探头和流量池来处理酸和腐蚀.耐酸Teflon探头和流量池专为此应用设计.提供各种长度和配置的探头.LT-NIR技术甚至可用于连续产生泡沫的反应中.
Z终质量测量
LT-NIR也可在Z终产品中测量水分，例如集成电路.和其他IsoChem测量一样，该分析也是快速、准确、无损的.也可测量太阳能电池的主要NIR属性，例如玻璃图层的NIR透光率
测量溶液： H2SO4 (硫酸)
HF (氢氟酸)
HCl (盐酸)
HNO3 (硝酸)
CH3COOH (醋酸)
NaOH (氢氧化钠)
Na2CO3 (碳酸钠)
NH4OH (氢氧化铵)
SC-1
SC-2
H2O2 (过氧化氢)
TMAH (四甲基氢氧化铵)
水
