半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备符合工业需求，避免漏水之运转设计，极简易之配管及回路设计需求，提供完整之电源供应原件，可提供单一膜块独立电源供应，可显示个别膜块所消耗之电压及安培数，膜块设计可承受工作压力100psi，膜块设计可承受工作温度45℃(113 )，高温专用膜块可承受工作温度80℃(176 )，无需停机再生，影响制程，无需使用酸碱再生也无废水排放。
半导体清洗用超纯水设备工作流程
预处理——RO装置——中间水箱——中间水泵——EDI装置——纯水水箱——纯水泵——用水点。
半导体清洗用超纯水设备优点
不耗酸、碱、自动再生。
占地面积小，自动化程度高。
出水质量高且可调整。
单机产水量：50m3/h。
产水电阻：≥15MΩ.cm(25℃)。
适用于电厂化水、锅炉补给水、冶金、汽车工业。
半导体清洗用超纯水设备的工作原理
EDI系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留，水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水。而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。
半导体清洗用超纯水设备的应用领域
1、电厂化学水处理。
2、电子、半导体、精密机械行业超纯水。
3、食品、饮料、饮用水的制备。
4、小型纯水站，团体饮用纯水。
5、精细化工、精尖学科用水。
6、其他行业所需的高纯水制备。
7、制药工业工艺用水。
8、海水、苦咸水的淡化。
